Unsere hauchdünnen und transparenten Schichten sind mit blossem Auge nicht sichtbar. Nur effiziente Messinstrumente machen Analysen zur Bestimmung der äussersten Atomlagen möglich.
Überall, wo Oberflächen im Spiel sind, kann gemessen und analysiert werden. Deshalb sind unsere Dienstleistungen genau dort wieder zu finden: überall. Wir verfügen über ein breites Sortiment an Analysegeräten und entsprechend hohes Know-how, um ausführliche Untersuchungen vorzunehmen. Ob die Zusammensetzung, Schichtdicke, Energie oder Reibung einer Oberfläche, wir zeigen Ihnen Ihre Produktoberfläche von einer anderen Sichtweise auf. Mehr...
Gewinnen Sie einen Eindruck unserer Geräteausstattung und Sie werden merken, dass es an Messgeräten bei uns nicht mangelt:
X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
Die Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS – X-ray Photoelectron Spectroscopy) ermöglicht die Bestimmung der chemischen Zusammensetzung der äussersten Schicht einer Oberfläche. Mehr…
Weitere oberflächenanalytische Instrumente
Um Ihre Fragestellungen exakt und speditiv zu beantworten, bieten wir eine einmalige Kombination von analytischen Methoden.
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Analysemethode |
Anwendungsgebiet |
Messumgebung |
Materialien |
Referenzen |
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ToF-SIMS: Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectroscopy |
Ermittlung der chemischen Zusammensetzung, Tiefe und Querverteilung einer Schicht |
Ultrahochvakuum (UHV) |
unbeschränkt |
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Variable Angle Spectral Ellipsometry (VASE) |
Messung der Schichtdicke und des Brechungsindex eines Films |
in-situ/Ambient |
reflektierend |
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Micro-Tribometer (mTb) |
Bestimmung der Reibungseigenschaften |
flüssig/Ambient |
unbeschränkt |
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Contact Angle (CA) and surface tension |
Kontaktwinkelmessung zur Definierung der Benetzbarkeit und der Oberflächenenergie |
Ambient |
unbeschränkt |
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Scanning Electron Microscopy (SEM/EDX) |
Oberflächenabbildung bis hin zu Nano-Dimensionen |
Ultrahochvakuum (UHV) |
unbeschränkt |
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Interference Microscopy |
Oberflächenabbildung |
Ambient |
unbeschränkt |
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Atomic Force Microscopy (AFM) |
Abbildung der Oberflächentopographie, Rauigkeit und Reibung |
Ambient |
sehr flach |
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Quarz Crystal Microbalance (QCM) |
Bestimmung von Adsorptionsprozessen und in-situ Reaktionen |
flüssig |
dünne Schichten auf Sensoroberflächen |
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Waveguide Interrogated Optical Sensors (WIOS) |
Bestimmung von Adsorptionsprozessen und in-situ Reaktionen |
flüssig |
dünne Schichten auf Sensoroberflächen |
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